[20p-B101-1~16] 15.4 III-V族窒化物結晶

13:30 〜 13:45

[20p-B101-1] エチレンジアミンを加えたMist CVD法によるCu₃N薄膜成長

〇(M2)吉田 将吾¹、大村 和世²、永井 裕己¹、尾沼 猛儀¹、山口 智広¹、正橋 直哉²、本田 徹¹ (1.工学院大、2.東北大 金研)

キーワード：

窒化銅,ミスト化学気相成長