講演情報
[21a-A202-1][講演奨励賞受賞記念講演] 表面偏析による積層構造制御を利用したWSe2 FETのp型動作
〇中島 隆一1、西村 知紀1、金橋 魁利1、上野 啓司2、宮田 耕充3、長汐 晃輔1 (1.東大、2.埼玉大、3.都立大)
キーワード:
遷移金属ダイカルコゲナイド,フェルミレベルピニング,表面偏析
Biの小さい表面エネルギーに着目し、Bi/Pt二層系電極の表面偏析を適用してWSe2のp型動作を試みた。アニールによりWSe2 FETの特性がn型からp型へと変化した。
遷移金属ダイカルコゲナイド,フェルミレベルピニング,表面偏析