[21a-A302-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

9:15 〜 9:30

[21a-A302-2] プラズマCVD装置におけるマイクロ波プラズマ着火過程の高速撮影

〇(M1)伊藤 洋一¹、新元 美晴¹、比村 治彦¹、三瓶 明希夫¹、河内 裕一¹ (1.京都工繊大工)

キーワード：

プラズマ,半導体成膜,表面波

表面波プラズマの着火過程の高速撮影によって、誘電体窓付近の発光分布が方位角方向に回転している様子が観測された。この現象はアルゴンガスでプラズマを生成した場合で顕著に見られた。半導体成膜のプラズマCVDに使われる実ガスの場合にも同様の現象が観測された。ガス圧やマイクロ波電力などを変化させながら発光パターンの比較を行った。輝度分布の方位角への回転と表面波によるプラズマ生成の関連性について報告する。