セッション詳細
[21a-A306-1]グラフェン/WC/SiCヘテロ構造の作製とその評価
〇(M2)大塚 康平1、伊藤 孝寛2、遠藤 彰3、乗松 航4 (1.名大院工、2.名大SRセ、3.東大物性研、4.早大)
[21a-A306-3]4H-SiC-m面上の周期リップルグラフェン
〇(D)今村 均1、ビシコフスキー アントン1、碇 智徳2、藤澤 唯太3、小畑 由紀子3、岡田 佳憲3、田中 悟1 (1.九大院工、2.宇部高専、3.沖縄科技大)
[21a-A306-5]グラフェン/SiC (0001)におけるFeインターカレーションとその界面構造
〇(D)榊原 涼太郎1、寺澤 知潮2,3、乗松 航4 (1.名大院工、2.原子力機構、3.東大生研、4.早大理工)
[21a-A306-6]h-BN上へのグラフェンのヘテロエピタキシャル成長の制御
小濱 路生1、米窪 和輝1、杉野 秀明1、諏訪 健斗1、菅原 健太1、唐 超1、大河内 拓雄2、渡邊 一世3、尾辻 泰一1、〇吹留 博一1 (1.東北大通研、2.高輝度光科学研究センター、3.情報通信研究機構)
[21a-A306-8]光電子制御プラズマによるグラフェン改質 (I) ~ ラマン分光解析 ~
〇福田 旺土1、鷹林 将1、内藤 陽大1、田中 修斗1、山口 尚登2、小川 修一3、高桑 雄二4、津田 泰孝5、吉越 章隆5 (1.有明高専、2.ロスアラモス国立研究所、3.日本大学 生産工、4.東北大学 マイクロ研究開発センター、5.日本原子力研究開発機構)
[21a-A306-9]光電子制御プラズマによるグラフェン改質 (II) ~ 光電子分光解析 ~
〇鷹林 将1、福田 旺土1、内藤 陽大1、田中 修斗1、山口 尚登2、小川 修一3、高桑 雄二4、津田 泰孝5、吉越 章隆5 (1.有明高専、2.ロスアラモス国立研究所、3.日本大学 生産工、4.東北大学 マイクロ研究開発センター、5.日本原子力研究開発機構)