講演情報

[21a-P06-9]光電子ホログラフィによるPMA処理後のAl2O3/GaN界面評価

〇夏井 葉月1、上沼 睦典1,2、富田 広人1、橋本 由介1、松下 智祐1、藤井 茉美3、浦岡 行治1 (1.奈良先端大、2.産総研、3.近畿大)

キーワード:

パワーデバイス,窒化ガリウム