[21p-A302-1~9] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

13:00 〜 13:15奨励賞エントリー

[21p-A302-1] コイル状陽極を用いた直流真空アーク蒸着によるAlCrN膜の作製

〇鬼頭 純平¹、坂東 隆宏¹、針谷 達¹、滝川 浩史¹、杉田 博昭²、服部 貴大²、儀間 弘樹² (1.豊橋技科大、2.オーエスジー（株）)

キーワード：

窒化アルミクロム,真空アーク蒸着,コイルアノード

我々は，高速成膜を実現するFAD法として，自己磁界を発生するコイル状陽極を用いてプラズマの輸送効率を改善した高速FAD（High rete FAD: HR-FAD）を開発し，TiN膜に適用し，その効果を明らかにした。
本研究では，HR-FADをAlCrN膜に形成に適用した。まず，陰極-基板間距離における膜の様相，特に，膜厚およびドロップレット付着状況を調べた。成膜後の膜厚は，最も長い陰極-基板間距離を持つ陰極正面で最大となり，プラズマの高効率輸送が確認された。