[21p-A302-1~9] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

13:30 〜 13:45

[21p-A302-3] PTFEをターゲットとしたスパッタ膜の物性に対する成膜条件の依存性

〇田口 貢士¹、富川 弥奈¹、山原 基裕¹、登尾 一幸¹ (1.株式会社魁半導体)

キーワード：

プラズマ,PTFE,スパッタ

PTFEをターゲットとする、スパッタ膜の成膜形成に於いて、ターゲットにより近い接触角を得られる条件を模索した。
また、スパッタ膜の接触角や構造が、成膜条件のどのパラメータに依存性を有するのか観察した。
その結果、圧力と処理時間が大きく影響していることが判明した。
FT-IR測定やDSC測定の結果を解析し、分子構造の変化や物性に対する圧力や処理時間の関係性について議論する。