講演情報
[21p-A302-7]プラズマイオンビーム照射によるドライ原子層プロセスの模擬的検討
〇三輪 和弘2、高田 昇治2、堀 勝1,2、石川 健治1,2 (1.名大院工、2.名大低温プラズマ研)
キーワード：
ドライ原子層プロセス,プラズマイオンビーム,XPS表面分析
ドライ原子層プロセス(ALP)は将来の超伝導量子デバイス等の製造に必須と考えられる。ALPの要素技術の一つであるプラズマイオンビームをAl表面へ照射し、XPSで表面酸化物の変化を分析することで、Josephson接合のトンネルバリアAl酸化物層の形成を想定した模擬的ALPを試みたところ、ビーム照射により表面のアモルファスアルミナ(Al-OH)がAl-Oに変化したと考えられる結果が得られた。