講演情報

[21p-B201-4]顕微ラマン分光法とFEM解析によるSiC-SBDにおけるSiC/SiO2界面熱応力解析に関する研究

〇清住 竜也1、須田 潤1 (1.中京大工)

キーワード:

ワイドギャップ半導体,ラマン分光法,熱応力

SiC半導体には、非常に大きなバンドギャップ、高い絶縁破壊電界基づく大きな可能性があり,メガソーラーやEV車載用All-SiCパワーデバイスとして実用化されつつある.
一般に電気自動車のPCUにSBDなどのSiC半導体素子が使われており,約200℃の高温動作するため、高温領域での熱応力変化を知る必要がある
本研究では,SiC-SBDにおいてSiC/SiO2の界面熱応力を非破壊で求めることを目的とする