[21p-P06-1~14] 15.4 III-V族窒化物結晶

[21p-P06-2] 減圧CVD法で作製した六方晶窒化ホウ素薄膜のポストアニール

〇大石 泰己¹、青池 琉希¹、太田 颯真¹、高橋 悠真¹、竹村 晃¹、小南 裕子¹、原 和彦^1,2,3 (1.静岡大院、2.大学院光医工学研究科、3.静岡大電研)

キーワード：

六方晶窒化ホウ素,CVD,薄膜