[22a-A303-1~9] 13.5 デバイス／配線／集積化技術

9:30 〜 9:45奨励賞エントリー

[22a-A303-3] プラズマ活性化接合応用に向けたSiCN膜の特性評価

〇蛯子 颯大¹、大西 洸輝¹、上殿 明良²、Serena Iacovo³、井上 史大¹ (1.横国大院理工、2.筑波大、3.imec)

キーワード：

ウエハ接合,ハイブリッド接合