セッション詳細

[22a-A304-1~10]6.4 薄膜新材料

2023年9月22日(金) 9:00 〜 11:30
A304 (熊本城ホール)
岡 大地(都立大)

[22a-A304-1]キレート塗布強熱法で合成した膜からの Cu 溶出速度

〇小野寺 美和1、中村 淳2,1、伊藤 治2、本間 義信3、鈴木 敦子3、中村 勝則4、山村 未来4、小松 啓志1、下村 匠1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト、3.本間組、4.藤村クレスト)

[22a-A304-2]Cuキレート錯体水溶液を用いて作製したCu膜の深さ方向分析

〇廣瀧 蒼介1、小松 啓志1、中村 淳2、伊藤 治2、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト)

[22a-A304-3]EDTA金属錯体を原料とした還元焼成プロセスによる銅コーティング

〇柴田 響一1、石田 健1、木村 玲皇1、中村 淳1,2、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト)

[22a-A304-4]低温下でのエアロゾルデポジション法によるゴム部材への緻密セラミック成膜

〇後藤 拓1、松林 康仁1、明渡 純1 (1.産総研)

[22a-A304-5]ミストデポジションによる高性能ITOナノ粒子の大気圧成膜

鈴木 涼子1、〇西 康孝1、松原 正樹2、村松 淳司2、蟹江 澄志2 (1.(株)ニコン、2.東北大学)

[22a-A304-6]水溶性犠牲層を用いて作製した自立型FeSeメンブレンの超伝導特性評価

〇塩貝 純一1,2、塚﨑 敦3,4 (1.阪大理、2.阪大OTRI、3.東北大金研、4.東北大CSIS)

[22a-A304-7]ヒドリド伝導率向上を目指したMLiH3エピタキシャル薄膜へのアルカリ金属置換

〇(M2)福士 英里香1、森 史弥1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.物材研)

[22a-A304-8]イオン液体アシスト法を用いたLi(BH4)1-xIx薄膜合成

〇(M2)戸澤 拓海1、河村 優奈1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.物材研)

[22a-A304-9]ナノ多孔質ハイブリッド膜を用いたイオンダイオードの整流特性

〇(M2)熊倉 成水1、石﨑 裕也1,2、山本 俊介1、三ツ石 方也1 (1.東北大院工、2.立教大理)

[22a-A304-10]光スイッチ材料としてのMnTe薄膜の評価

〇桑原 正史1、金 美賢2、森 竣祐2、双 逸2、須藤 祐司2、河島 整1 (1.産総研、2.東北大)