セッション詳細
[22a-A304-1]キレート塗布強熱法で合成した膜からの Cu 溶出速度
〇小野寺 美和1、中村 淳2,1、伊藤 治2、本間 義信3、鈴木 敦子3、中村 勝則4、山村 未来4、小松 啓志1、下村 匠1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト、3.本間組、4.藤村クレスト)
[22a-A304-2]Cuキレート錯体水溶液を用いて作製したCu膜の深さ方向分析
〇廣瀧 蒼介1、小松 啓志1、中村 淳2、伊藤 治2、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト)
[22a-A304-3]EDTA金属錯体を原料とした還元焼成プロセスによる銅コーティング
〇柴田 響一1、石田 健1、木村 玲皇1、中村 淳1,2、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大、2.中部キレスト)
[22a-A304-5]ミストデポジションによる高性能ITOナノ粒子の大気圧成膜
鈴木 涼子1、〇西 康孝1、松原 正樹2、村松 淳司2、蟹江 澄志2 (1.(株)ニコン、2.東北大学)
[22a-A304-6]水溶性犠牲層を用いて作製した自立型FeSeメンブレンの超伝導特性評価
〇塩貝 純一1,2、塚﨑 敦3,4 (1.阪大理、2.阪大OTRI、3.東北大金研、4.東北大CSIS)
[22a-A304-7]ヒドリド伝導率向上を目指したMLiH3エピタキシャル薄膜へのアルカリ金属置換
〇(M2)福士 英里香1、森 史弥1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.物材研)
[22a-A304-8]イオン液体アシスト法を用いたLi(BH4)1-xIx薄膜合成
〇(M2)戸澤 拓海1、河村 優奈1、原田 尚之2、大口 裕之1 (1.芝浦工大理工、2.物材研)
[22a-A304-9]ナノ多孔質ハイブリッド膜を用いたイオンダイオードの整流特性
〇(M2)熊倉 成水1、石﨑 裕也1,2、山本 俊介1、三ツ石 方也1 (1.東北大院工、2.立教大理)