講演情報

9:15 〜 9:30

[22a-A401-2]計算科学による新規エッチングガスの探索(II)

〇林俊雄¹、石川健治¹、関根誠¹、堀勝¹ (1.名古屋大学工)

エッチング,新規エッチングガス,解離過程

エッチングガスとしてPFC, HFC, HFE、NF₃, SF₆などがこれまで用いられてきた。しかし、ドライエッチングに有用と思われるガスは他にも多く存在する。この観点に立ちCF₃NH₂とCF₃NOについてその電子物性と解離過程を、前回の報告を基に、より詳細に調べたので報告する。