セッション詳細
[22a-A401-1]プラズマドライエッチングを用いたイットリウム鉄ガーネットに対する微細加工の検討
〇(M2)北井 達也1、高 思源2、谷口 公太1、岩本 敏2、太田 泰友1 (1.慶應理工、2.東大先端研)
[22a-A401-4]Ar/C4F8/O2容量結合型パルスプラズマにおける放電開始直後の電離レートをもとにしたイオン組成の定量的評価
〇加藤 閣人1、赤塚 勇大1、久保井 宗一1、鈴木 陽香1,2、豊田 浩孝1,2,3 (1.名古屋大学、2.名大低温プラズマ、3.核融合研)
[22a-A401-5]CF3+イオン照射におけるタングステンエッチング反応の評価
〇川畑 竣大1、伊藤 智子1、Kang Song-Yun2、Son Jiwon2、Lee Dongkyu2、唐橋 一浩1、浜口 智志1 (1.阪大院工、2.Samsung Electronics)
[22a-A401-6]容量結合型パルスプラズマにおける負イオンの電極材料依存性
〇(M2)都地 一輝1、堤 隆嘉2、蕭 世男2、関根 誠2、石川 健治2、堀 勝2 (1.名大院工、2.名大低温プラズマ科学研究センター)
[22a-A401-7]低温における絶縁膜の擬ウェットプラズマエッチング
〇蕭 世男1、関根 誠1、飯島 祐樹2、須田 隆太郎2、大矢 欣伸2、木原 嘉英2、堤 隆嘉2、石川 健治2、堀 勝1 (1.名古屋大学、2.東京エレクトロン)
[22a-A401-8]CF4/H2プラズマによるSiO2,SiN,a-C膜の低温エッチング
〇(M1)今井 祐輔1、蕭 世男2、関根 誠2、飯島 祐樹3、須田 隆太郎3、大矢 欣伸3、木原 嘉英3、堤 隆嘉2、石川 健治2、堀 勝2 (1.名大院工、2.名大低温プラズマ科学センター、3.東京エレクトロン宮城)
[22a-A401-9]Bosch processにおけるパッシベーション膜の特性と加工形状
〇野中 知行1,2、高橋 和生1、内田 聡充2、ルンドガード ステファン2、辻 理2 (1.京工繊大、2.サムコ(株))
[22a-A401-10]反応性大気圧熱プラズマジェットを用いたフォトレジストの超高速エッチングと発光分光に関する検討
〇松本 響平1、花房 宏明1、東 清一郎1 (1.広大先進理工)