[22a-A401-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

9:30 〜 9:45

[22a-A401-3] 高アスペクト比構造用に設計された新規加工ガス

〇長谷川 智¹、ガマリェエフ ウラディスラフ¹、ゴッセ ニコラ¹ (1.エアリキードラボ)

キーワード：

新規加工ガス,高アスペクト比加工,温暖化係数

記憶媒体であるNANDの高密度化において、最も困難である加工の一つが、プラズマを用いたドライエッチング工程の高アスペクト比ホール加工である。今後、更なる高アスペクト化が進み、より高度な加工精度と生産性が求められる。また近年、更なる環境への配慮が高まり、温暖化係数(GWP)が高い加工ガスに関しては、近い将来、使用の禁止が検討されており、より環境に優しい加工ガスの需要が高まっている。本発表では加工性に優れ、また環境にも優しい新規加工ガスを用いた実験を報告する