講演情報

[22a-A401-5]CF3+イオン照射におけるタングステンエッチング反応の評価

〇川畑 竣大1、伊藤 智子1、Kang Song-Yun2、Son Jiwon2、Lee Dongkyu2、唐橋 一浩1、浜口 智志1 (1.阪大院工、2.Samsung Electronics)

キーワード:

高アスペクト比エッチング,イオンビーム