講演情報
[22a-B101-1]InN成長におけるサファイア基板表面への窒素プラズマ処理の効果
〇後藤 高寛1、熊谷 直人1、清水 鉄司1、山田 永1、井手 利英1、前田 辰郎1 (1.産総研)
キーワード:
InN,MOCVD
本研究では、InN膜の堆積直前に、超高密度窒素プラズマ照射でサファイア表面を窒化させることで、InN膜の結晶成長にどのような影響を及ぼすのかを検討した。ラマンスペクトルから、窒素プラズマ処理がInN膜の膜質改善に効果的であることがわかった。当日は、PLやTEM分析の結果とあわせて、サファイア基板への窒素プラズマ処理とInN膜への効果について議論する。