講演情報
[22a-C501-4]Si-Ge-Sn-O四元系アモルファス薄膜における低熱伝導率の発現
〇(PC)鎮目 邦彦1、佐々木 道子1,2、後藤 真宏2、塩見 淳一郎1 (1.東大院工、2.物材機構)
キーワード：
アモルファス,熱伝導,サーモリフレクタンス法
コンビナトリアルスパッタリングによって種々組成のSi-Ge-Sn-O四元系アモルファス薄膜を作製し、周波数領域サーモリフレクタンス法によって熱伝導率を評価した。結果、SnとO濃度が増大するにつれ熱伝導率が低減する傾向が確認され、最低で0.2 W/mKの低熱伝導率を達成した。比較的に重元素であるSn或いは軽元素であるOは、アモルファス構造中に大きな質量ミスマッチを導入するため熱伝導率が低減したと考えられる。