セッション詳細
[22a-C501-1~8]22.1 合同セッションM 「フォノンエンジニアリング」
2023年9月22日(金) 9:30 〜 11:45
C501 (国際交流会館)
野村 政宏(東大)、 馬場 寿夫(JST)
[22a-C501-1]3次元自己組織化多層SiGeナノドットの熱物性
〇横川 凌1,2、寿川 尚1、前田 唯葉1、伊藤 佑太1、山下 雄一郎3、Wen Wei-Chen4、山本 裕司4、小椋 厚志1,2 (1.明治大理工、2.明治大MREL、3.産総研、4.IHP)
[22a-C501-3]SiGe薄膜におけるナノ構造作製の熱電性能に与える影響
〇小池 壮太1、柳澤 亮人1、黒澤 昌志2、Jha Rajveer3、辻井 直人3、森 孝雄3、野村 政宏1 (1.東大生研、2.名古屋大、3.物材機構)
[22a-C501-4]Si-Ge-Sn-O四元系アモルファス薄膜における低熱伝導率の発現
〇(PC)鎮目 邦彦1、佐々木 道子1,2、後藤 真宏2、塩見 淳一郎1 (1.東大院工、2.物材機構)