講演情報
[22p-A304-5]プラズマ浸漬格子状ターゲットスパッタリング法による酸化アルミニウム薄膜の作製に関する研究
〇(M1)木山 歩優1、今 高信1、森田 知希1、内藤 正路1、碇 智徳2 (1.九工大、2.宇部高専)
キーワード：
スパッタリング,表面改質,薄膜作製
従来のスパッタ法ではプラズマ曝露やプラズマの高密度化によって基板へのダメージや物性の劣化が危惧されている。このようなことを防ぐために平板ターゲットを格子状ターゲットに変更し、プロセス場とプラズマ生成場を分離したプラズマ浸漬格子状ターゲットスパッタリング法を用いて成膜を行った。作製した酸化アルミニウム薄膜の特性についてXPS法やSEM、XRDを用いて観察した。また、接触角測定を行い撥水性について評価した。