2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会
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一般セッション(口頭講演)6 薄膜・表面：6.4 薄膜新材料

[22p-A304-1~6]6.4 薄膜新材料

2023年9月22日(金) 13:00 〜 14:30
A304 (熊本城ホール)
塩貝 純一(阪大)
13:00 〜 13:15

[22p-A304-1]TiO2(001)基板上のVO2薄膜における成膜条件と格子歪の関係

〇村岡 祐治1、中本 歴2、脇田 高徳1、横谷 尚睦1 (1.岡山大基礎研、2.岡山大院自然科学)
13:15 〜 13:30英語発表

[22p-A304-2]Effects of Variable Zirconium Doping via Co-sputtering Into BiVO4 Thin Film Under Visible Light Illumination

〇(B)Daryl Tatsuhiro Ide1, Shukur Gofurov1, Lingga Ghufira Oktariza1, Muhammad Monirul Islam1, Shigeru Ikeda2, Takeaki Sakurai1 (1.Univ. of Tsukuba, 2.Konan Univ.)
13:30 〜 13:45英語発表

[22p-A304-3]Synthesis and optical properties of bismuth-based mixed-anion compounds epitaxial thin films

〇Zhengkang PENG1,2, Daichi Oka2, Yasushi Hirose2, Tomoteru Fukumura1 (1.Tohoku Univ., 2.Tokyo Metro. Univ.)
13:45 〜 14:00

[22p-A304-4]PLD法によるGaN上へのMn3(Ge,Mn)N(111)エピタキシャル薄膜の作製

〇川口 昂彦1、菅原 祐哉1、杉浦 怜希1、坂元 尚紀1、脇谷 尚樹1 (1.静大院工)
14:00 〜 14:15

[22p-A304-5]プラズマ浸漬格子状ターゲットスパッタリング法による酸化アルミニウム薄膜の作製に関する研究

〇(M1)木山 歩優1、今 高信1、森田 知希1、内藤 正路1、碇 智徳2 (1.九工大、2.宇部高専)
14:15 〜 14:30

[22p-A304-6]複合成膜手法で作製した非晶質TiO2薄膜の低屈折率化の検討

〇速水 舞1、室谷 裕志2、松平 学幸3 (1.東海大学院総合理工、2.東海大工、3.(株)シンクロン)
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