講演情報
[22p-P01-3]DC運転およびパルス運転による反応性マグネトロンスパッタリングを用いた水蒸気プラズマの生成
〇井上 晋作1、カタパング アレン1、和田 元1 (1.同志社大理工)
キーワード：
反応性マグネトロンスパッタリング
スパッタリング法は成膜技術の一つであり，様々な材料の薄膜を形成するのに用いられる。水蒸気を用いると，様々な特性の改善が期待できる。本研究では，反応性マグネトロンスパッタリングにおける DC，パルス電源での水蒸気プラズマの生成を調べた。パルス電源を用いると，放電パラメータのヒステリシスが減少することが示されている。今後，イオンエネルギーと発光スペクトルへの影響について， DC 反応性蒸着プロセスと比較する。