講演情報
[22p-P08-2]超高濃度オゾン水によるフォトレジスト除去
〇三浦 敏徳1、加藤 直樹1、中川 彰利1、清家 聡1 (1.明電舎)
キーワード：
オゾン水,レジスト除去
半導体製造の洗浄工程で広く用いられている硫酸、過酸化水素等の有害薬品の代替としてオゾン水が検討されている。我々は明電舎製Pure Ozone Generator(以下POG)から得られる約100%の高濃度・高純度のオゾンガス(以下ピュアオゾンガス)により400ppmを超える超高濃度オゾン水生成装置を開発している。今回、その効果を調べるため、得られたオゾン水を半導体リソグラフィ工程で用いられるフォトレジストの除去に適用したので報告する