講演情報
[23a-B201-3]EID AlGaN/GaN MOS-HEMTの400V/10Aスイッチング動作実証EID AlGaN/GaN MOS-HEMTの400V/10Aスイッチング動作実証
〇南條 拓真1、山本 章太郎1、品川 友宏1、古橋 壮之1、西川 和康1、江川 孝志2 (1.三菱電機 先端総研、2.名工大)
キーワード:
窒化ガリウム,高電子移動度トランジスタ
完全空乏化したAlGaN/GaNヘテロ界面に2DEGを選択的に誘起できる新規技術を適用したエッチングフリーで作製できるプレーナ型EID-HEMTを作製し、ゲート幅が150mmのマルチフィンガー型の素子にて400V/10Aの安定したスイッチング動作を実証した。