講演情報
[23p-A301-10]スパッタリングターゲットからの負イオン放出：Al添加ZnOとCuの比較
〇松田 良信1、早川 誠一1、金堀 洋輔1、大島 多美子1 (1.長崎大院工)
キーワード：
反射電界エネルギー分析器,負イオン,酸化亜鉛
圧力1Paの純Ar中のDCマグネトロン放電のターゲット浸食領域対向部で、基板入射負イオンのエネルギー分布関数（EDF）を磁化反射電界型エネルギー分析器（RFEA）を用いて測定した。Al添加ZnOターゲットではターゲット印加電圧に相当する高エネルギー成分が確認できるが、Cuターゲットでは高エネルギー成分が観測できない。これは、Al添加ZnOターゲットで得られた高エネルギー成分が酸素負イオンによるものであることを示す．