講演情報
[23p-A301-12]円筒対向ターゲットを用いた高周波リング状ホロー磁化プラズマ生成に及ぼす磁石配置の影響
〇近藤 文太1、大津 康徳1 (1.佐大院理工)
キーワード：
薄膜,円筒ターゲット,リング状ホロー磁化プラズマ
本研究では、薄膜へのダメージの影響を抑制された対向ターゲットスパッタ法に着目し、その課題を解決するために、直径の異なる２つの円筒ターゲットを対向に配置させる円筒対向ターゲットを用いたリング状ホロー磁化プラズマ装置を開発した。しかし、高価なネオジム磁石を24個と多数使用しており、実用化において高コストとなる。なので、磁石の個数を削減させるために、プラズマ生成に及ぼす磁石の配置の影響を検討した。