2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会
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14:30 〜 14:45

[23p-A303-5]2段階酸化によるGeO2膜の作製と評価

〇斉藤 基1、土屋 雄太1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)
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キーワード：

半導体

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