講演情報
[23p-A602-2]PL法及びラマン分光法による3次元自己組織化多層SiGeナノドットの評価(Ⅱ)
〇伊藤 佑太1、横川 凌1,2、Wen Wei-Chen3、山本 裕司3、箕輪 卓哉1、小椋 厚志1,2 (1.明治大理工、2.明大MREL、3.IHP)
キーワード：
ナノドット,SiGe,歪
ナノドットレーザの発振における利得向上のため、ドット多層化によるドット密度向上が図られている。ドットの積層構造について、ドット位置が交互に積層されるStaggered状積層とドットが直上に積層されるDot-on-dot状積層がある。Dot-on-dotナノドットはStaggeredナノドットに比べ、PL測定からはピークのブルーシフト、ラマン分光測定からは強い圧縮歪が確認された。本研究ではドットの積層構造の違いがもたらす光変換波長への影響について検討を実施した。