講演情報

14:30 〜 14:45奨励賞エントリー

[23p-A602-8]パターニングを施した Si(111)上への歪み SiGe/Ge の作製と評価

〇長尾優希¹、我妻勇哉¹、井上貴裕¹、小田島綾華¹、芝原夕夏¹、山田道洋^2,3、浜屋宏平^2,4,5、澤野憲太郎¹ (1.東京都市大学、2.阪大基礎工 CSRN、3.JST さきがけ、4.阪大 OTRI、5.阪大基礎工)

SiGe,Ge,臨界膜厚