講演情報

[23p-A602-9]歪みSi/SiGe/Si(110)MOS構造の界面準位密度の評価

〇青沼 雄基1、藤澤 泰輔1、堀内 未希1、吉川 満希1、山中 淳二1、原 康祐1、中川 清和2、有元 圭介1 (1.山梨大、2.東京都市大)

キーワード:

界面準位,歪みSi,MOS