セッション詳細
[16a-C31-1~10]6.4 薄膜新材料
2024年9月16日(月) 9:00 〜 11:30
C31 (ホテル日航新潟 3F)
西川 雅美(長岡技科大)
[16a-C31-1]ユニバーサルな機械学習ポテンシャルを用いて作成されたシリコン系低誘電率絶縁膜の評価
〇野武 晃1、筒井 拓郎1、守屋 剛1、大井川 仁美1、馮 磊1、倪 澤遠2、加藤 大輝2、小川 智久2、松隈 正明2、樋口 恒2、久保 敦史2、大越 顕2、松山 洋平2、村上 博紀2、戸根川 大和2 (1.東京エレクトロン(株)、2.東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ(株))
[16a-C31-6]Cr添加によるMnTe薄膜の磁気特性変化
〇金 美賢1、双 逸2、中島 諒芽3、春本 高志3、安藤 大輔1、齊藤 雄太1、須藤 祐司1,2 (1.東北大工、2.東北大材料科学高等研、3.東工大材料)
[16a-C31-7]Fe3-xTixO4スピネルフェライト薄膜の高温スピンクラスターグラス挙動
〇山原 弘靖1、Tang Siyi1、Li Haining1、Md Shamim Sarker1、Ahamed E M K Ikball1、高 成柱1、福島 鉄也2、関 宗俊1、田畑 仁1 (1.東大院工、2.産総研)
[16a-C31-8]コバルトハニカム格子を含むイルメナイト型NaCo1/3Sb2/3O3薄膜の合成
〇李 好博1、小林 俊介2、鍾 承超3、大江 耕介2、閻 偉濤4、王 維華4、服部 梓1、高津 浩5、陰山 洋5、田中 秀和1 (1.阪大産研、2.JFCC、3.立命館大、4.南開大学、5.京大)
[16a-C31-9]VO2/TiO2(001)における格子歪の形成要因
〇村岡 祐治1、中本 歴2、岡﨑 宏之3、脇田 高徳1、横谷 尚睦1 (1.岡山大基礎研、2.岡山大院自然科学、3.量研)
[16a-C31-10]高基板温度におけるスパッタ膜形成時の内部応力in-situ観測
〇中川 茂樹1、横澤 諒1、飯田 大介1、佐々木 康宣1、高村 陽太1、中光 豊2、神保 武人2 (1.東工大工、2.ULVAC)