セッション詳細
[20p-A32-1]協同的トムソン散乱法を利用したレーザー生成EUV光源用Snプラズマ内電子温度・密度の能動的制御
〇(M2)中山 珠樹1、富田 健太郎1、パン イーミン1、篠田 樹1 (1.北海道大学)
[20p-A32-2]赤外レーザー吸収分光法による低圧水蒸気プラズマ中の水分子密度計測
〇小渡 祐樹1、紀平 侑樹1、王 啓明1、波田 美耶子1、森山 匠1、坂口 有平1、両角 潤樹2、笹倉 美知瑠2、占部 継一郎2 (1.(株)堀場エステック、2.京大院工)
[20p-A32-6]高気圧ヘリウムプラズマにおけるガラスセルを用いた空気不純物濃度制御と放電状態遷移に関する研究
〇岸本 航一1、豊田 みなみ1、江利口 浩二1、占部 継一郎1 (1.京大院工)
[20p-A32-9]レーザー誘起蛍光法を用いたプラズマ―高速液流界面における気相OHラジカルの空間分布計測
〇武田 一希1、佐々木 渉太1、高島 圭介1、金子 俊郎1 (1.東北大院工)
[20p-A32-10]大気圧プラズマ|水溶液界面を横切るファラデー電流の律速過程の解明
〇(M2)木下 陽介1、佐々木 浩一2、横山 悠子1、西 直哉1、作花 哲夫1 (1.京大院工、2.北大院工)
[20p-A32-11]スピントラップ法を用いたプラズマ/液相界面ラジカルの実時間検出
〇井上 健一1、近藤 隆1、石川 健治1、堀 勝1 (1.名大低温プラズマ科学研究センター)