講演情報
[10a-N201-2]低熱伝導率を有する選択的酸素空孔導入エピタキシャルSnO2薄膜/r-Al2O3の熱電出力因子
〇石部 貴史1,2、寺田 吏1、成瀬 延康3、目良 裕3、山下 雄一郎4、小林 英一5、中村 芳明1,2 (1.阪大院基礎工、2.阪大OTRI、3.滋賀医科大、4.産総研、5.SAGA-LS)
キーワード：
熱電材料、酸化物薄膜、酸素空孔
これまで我々は、SnO2薄膜において選択的にO2-アニオン（酸素空孔）を操作することで極低熱伝導率を達成してきた。しかし、その出力因子が広い温度領域で高く維持されるか否かは不明であった。そこで本研究では、室温以上の高温領域での出力因子を取得し、広い温度領域で高熱電性能を実証することを目的とする。