講演情報

[10a-N305-11]窒化チタン電極を形成したCMOSアレイセンサのイオン応答特性とバイオセンシングへの応用

Chew Zhi Shun1、〇土井 英生1、堀尾 智子1、崔 容俊1、高橋 一浩1、野田 俊彦1、澤田 和明1 (1.豊橋技科大)

キーワード:

イオンイメージング、窒化チタン、電位検出型CMOSアレイセンサ

脳細胞外における情報伝達物質の高分解能イメージングに向け,我々はこれまでに導電性の窒化チタン(TiN)を形成したCMOSアレイセンサの応用を検討してきた。TiNはコンタクトにおけるバリアメタルとして用いられ,CMOSプロセスとの相性がよい。本研究では,電位検出型CMOSアレイセンサ(画素ピッチ4.19 µm)のイオン計測特性を評価した。また,センサ上に可塑化PVCを用いたイオン選択性感応膜を形成し,バイオセンシングへの応用を検討した。