[10p-N324-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

16:30 〜 16:45

[10p-N324-12] CF₃OC₂F₅分子の電子物性と解離

〇林 俊雄¹、石川 健治¹、関根 誠¹、堀 勝¹ (1.名古屋大学)

キーワード：

CF3OCF2CF3、エッチングガス、一次解離過程

Perfluoro-methyl-ethyl-ether(CF₃OC₂F₅)がプラズマ中でどのように解離するのか計算化学を用いて解析しその特性についてどのような議論が出来るか試みる。また、前の講演で明らかにしたCF₃OCF₃とどのような違いがあるかについても議論する。