講演情報
[10p-N403-1]対向放物面鏡大パターン投影露光の解像度に関する検討
〇堀内 敏行1、岩崎 順哉1、小林 宏史1 (1.東京電機大工)
キーワード：
投影露光リソグラフィ、回転放物面鏡、解像度
任意の緩曲面に50-500μm線幅の大パターンを簡便安価に形成する対向回転放物面鏡光学系の解像度とその支配要因を検討した。この光学系には収差があり、レチクルの一点から出た光線がミラーのどこで反射するかにより行き先が異なる。そのため、コリメート光で照明しても、コリメート誤差による傾斜光があると、パターンがぼけて解像度を律する。ぼけの値を計算して解像限界を推測し、実際と大略一致することを確かめた。