[10p-N403-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術 | 2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)7 ビーム応用：7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[10p-N403-1~11]7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2025年9月10日(水) 13:30 〜 16:30

N403 (共通講義棟北)

13:30 〜 13:45

[10p-N403-1]対向放物面鏡大パターン投影露光の解像度に関する検討

〇堀内敏行¹、岩崎順哉¹、小林宏史¹ (1.東京電機大工)

13:45 〜 14:00

[10p-N403-2]EB / EUVリソグラフィ用有機無機ハイブリッドレジストのリソグラフィ特性
への有機配位子と金属コア構造の効果

〇山本洋揮¹、室屋裕佐²、岡本一将²、下田周平³、古澤孝弘² (1.量研高崎、2.阪大産研、3.北大)

14:00 〜 14:15奨励賞エントリー

[10p-N403-3]ニュースバル放射光施設でのOoB反射率計の開発

〇貫里拓未¹、早勢直紀¹、山川進二¹、原田哲男¹ (1.兵県大)

14:15 〜 14:30奨励賞エントリー

[10p-N403-4]EUVレジスト評価のための電子線照射装置の開発

〇(M1)山崎隆一¹、早勢直紀¹、山川進二¹、原田哲男¹ (1.兵庫県立大学)

14:30 〜 14:45

[10p-N403-5]段差を有する基板への回転塗布後レジスト表面の凹凸形成メカニズム

〇鹿浜康寛¹、本多孝好¹、萩本賢哉¹、白鳥英² (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社、2.東京都市大)

15:00 〜 15:15

[10p-N403-6]ヘリウムイオンビーム照射による極薄シリコンナノシートへの直接ナノ加工

〇森田行則¹、井上憲介²、杉江隆一²、小川真一¹ (1.産総研、2.東レリサーチセンター)

15:15 〜 15:30

[10p-N403-7]電子線リソグラフィにおけるネガ型レジストの現像初期過程の分子動力学解析（２）

〇多田皓星¹、田中琉暉¹、若松大翔¹、安田雅昭¹ (1.阪公大院工)

15:30 〜 15:45

[10p-N403-8]UVナノインプリント成型の分子動力学シミュレーションの開発

〇若松大翔¹、平井義彦¹、安田雅昭¹ (1.阪公大院工)

15:45 〜 16:00

[10p-N403-9]溶解性UV硬化樹脂を用いた金属リフトオフによるナノパターン作製

〇(M1)藤枝聖¹、大幸武司²、大門幸生²、谷口淳¹ (1.東理大先進工、2.東洋合成工業)

16:00 〜 16:15

[10p-N403-10]溶解性UV硬化樹脂を用いたナノ形状金箔作製

〇小川泰知¹、大幸武司²、大門幸生²、谷口淳¹ (1.東理大先進工、2.東洋合成工業)

16:15 〜 16:30

[10p-N403-11]遮光膜付きNILモールドを用いた銀インク転写プロセスの改善

〇芦田拓望¹、谷口淳¹ (1.東理大先進工)

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