2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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一般セッション(口頭講演)7 ビーム応用：7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[10p-N403-1~11]7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2025年9月10日(水) 13:30 〜 16:30
N403 (共通講義棟北)
山本 治朗(日立)、 谷口 淳(東理大)
13:30 〜 13:45

[10p-N403-1]対向放物面鏡大パターン投影露光の解像度に関する検討

〇堀内 敏行1、岩崎 順哉1、小林 宏史1 (1.東京電機大工)
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13:45 〜 14:00

[10p-N403-2]EB / EUVリソグラフィ用有機無機ハイブリッドレジストのリソグラフィ特性
への有機配位子と金属コア構造の効果

〇山本 洋揮1、室屋 裕佐2、岡本 一将2、下田 周平3、古澤 孝弘2 (1.量研高崎、2.阪大産研、3.北大)
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14:00 〜 14:15奨励賞エントリー

[10p-N403-3]ニュースバル放射光施設でのOoB反射率計の開発

〇貫里 拓未1、早勢 直紀1、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵県大)
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14:15 〜 14:30奨励賞エントリー

[10p-N403-4]EUVレジスト評価のための電子線照射装置の開発

〇(M1)山崎 隆一1、早勢 直紀1、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵庫県立大学)
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14:30 〜 14:45

[10p-N403-5]段差を有する基板への回転塗布後レジスト表面の凹凸形成メカニズム

〇鹿浜 康寛1、本多 孝好1、萩本 賢哉1、白鳥 英2 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社、2.東京都市大)
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15:00 〜 15:15

[10p-N403-6]ヘリウムイオンビーム照射による極薄シリコンナノシートへの直接ナノ加工

〇森田 行則1、井上 憲介2、杉江 隆一2、小川 真一1 (1.産総研、2.東レリサーチセンター)
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15:15 〜 15:30

[10p-N403-7]電子線リソグラフィにおけるネガ型レジストの現像初期過程の分子動力学解析（２）

〇多田 皓星1、田中 琉暉1、若松 大翔1、安田 雅昭1 (1.阪公大院工)
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15:30 〜 15:45

[10p-N403-8]UVナノインプリント成型の分子動力学シミュレーションの開発

〇若松 大翔1、平井 義彦1、安田 雅昭1 (1.阪公大院工)
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15:45 〜 16:00

[10p-N403-9]溶解性UV硬化樹脂を用いた金属リフトオフによるナノパターン作製

〇(M1)藤枝 聖1、大幸 武司2、大門 幸生2、谷口 淳1 (1.東理大先進工、2.東洋合成工業)
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16:00 〜 16:15

[10p-N403-10]溶解性UV硬化樹脂を用いたナノ形状金箔作製

〇小川 泰知1、大幸 武司2、大門 幸生2、谷口 淳1 (1.東理大先進工、2.東洋合成工業)
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16:15 〜 16:30

[10p-N403-11]遮光膜付きNILモールドを用いた銀インク転写プロセスの改善

〇芦田 拓望1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
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