講演情報
[7a-N202-6]水素ガス添加がFeドープITO薄膜のスパッタエピタキシーに及ぼす効果
〇角 卓実1、中村 敏浩1,2 (1.京大院人環、2.京大ILAS)
キーワード：
透明導電膜、希薄磁性半導体、RFマグネトロンスパッタリング
スパッタ成膜に用いるガスの組成は薄膜の構造や物性に大きな影響を与え得る。本研究では、水素/アルゴン混合ガスを用いたRFマグネトロンスパッタリング法によりFeドープITO薄膜を作製し、水素ガス添加が薄膜の結晶性、電気、光学および磁気特性に与える影響を評価した。結果として、水素添加条件においても薄膜はエピタキシャル成長しており、キャリア密度や磁化の値は水素添加の影響を受けていることを確認した。