セッション詳細

[7a-N202-1~11]6.4 薄膜新材料

2025年9月7日(日) 9:00 〜 12:00
N202 (共通講義棟北)

[7a-N202-1]フッ化物ターゲットを使用したPb2OF2エピタキシャル薄膜のPLD成長

〇村木 理恩1、丸野内 洸1、周 瑋琨1、近松 彰2、太田 裕道3、片山 司3 (1.北大院情報、2.お茶大理、3.北大電子研)

[7a-N202-2]TiO3F3八面体の回転に起因した酸フッ化物Bi2TiO4F2の反強誘電特性

〇片山 司1、近松 彰2、平山 元昭3 (1.北大電子研、2.お茶大、3.理研)

[7a-N202-3]ZrO2緩衝Si基板上へのエピタキシャルLaNiO3薄膜の成長と水素化誘起熱スイッチ特性

〇財前 遥1、田中 秀和1,2、李 好博1,2、太田 裕道3、ジョン アロン3、中川原 修4 (1.阪大産研、2.阪大先導的学際研究機構、3.北大電子研、4.I-PEX Piezo Solutions Inc)

[7a-N202-4]MOD法による酸化チタンナノ構造薄膜への遷移金属ドープ

〇廣瀬 由紀子1、桂 章皓1、岡西 音哉1、朱 文亮1、菅原 徹1 (1.京都工芸繊維大学)

[7a-N202-5]トンネルFET用Ti0.3Zn0.7O1.3/Si界面における電流成分解析

〇(M2)小川 健太1,2、知京 豊裕2、小椋 厚志1,3、長田 貴弘2,1 (1.明治大理工、2.物質・材料研究機構、3.明治大MREL)

[7a-N202-6]水素ガス添加がFeドープITO薄膜のスパッタエピタキシーに及ぼす効果

〇角 卓実1、中村 敏浩1,2 (1.京大院人環、2.京大ILAS)

[7a-N202-7]マイクロ波加熱の出力制御によるITO透明導電膜および多孔質TiO2層の形成と色素増感太陽電池への応用

〇竹田 敦哉1、伊藤 優飛1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)

[7a-N202-8]マイクロ波加熱を利用して作製した色素増感太陽電池における ITO膜の還元アニールの効果

〇水谷 太一1、竹田 敦哉1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)

[7a-N202-9]液中非平衡二次元プラズマを用いた多孔質TiO2層の形成と色素増感太陽電池への応用

〇三浦 成騎1、西川 大輔1、奥谷 昌之1 (1.静岡大院工)

[7a-N202-11]光発電デバイスへの応用のためのMXene電極の作製と物性評価

〇木嶋 祥貴1、ティワリ クナル2、北川 彩貴1、小林 大造1 (1.立命館大学理工、2.チェコ科学アカデミー物理研)