講演情報
[7a-N405-6]スパッタリング法で成膜されたアモルファスVTe2薄膜の結晶化挙動
〇(M2)折原 周平1、双 逸1,2、安藤 大輔1、須藤 祐司1,2 (1.東北大工、2.東北大AIMR)
キーワード：
薄膜、相変化、VTe2
遷移金属ダイカルコゲナイド（TMD）は原子層スケールまでの微細化可能性や高いキャリア移動度などの特異な物性を示すことから、次世代エレクトロニクスへの応用が期待されている。しかしながら、その作製手法はCVD法が主流であり、高温プロセスを必要とする。本研究では、高温プロセスを必要としないRFマグネトロンスパッタリング法によりTMDの一つであるVTe2薄膜を成膜し、熱処理に伴う結晶化挙動について調査した。