セッション詳細
[7a-N405-1~6]16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス
2025年9月7日(日) 9:30 〜 11:15
N405 (共通講義棟北)
須藤 祐司(東北大)、 菅原 健太郎(産総研)
[7a-N405-4]真空蒸着によるアモルファスGe-S-Te三元薄膜の創製と選択素子への応用
〇(M1C)猪瀬 大貴1、金 美賢1、畑山 祥吾2、齊藤 雄太1,2,3 (1.東北大工、2.産総研 SFRC、3.東北大 GXT)
[7a-N405-6]スパッタリング法で成膜されたアモルファスVTe2薄膜の結晶化挙動
〇(M2)折原 周平1、双 逸1,2、安藤 大輔1、須藤 祐司1,2 (1.東北大工、2.東北大AIMR)