セッション詳細
[7a-N405-1~6]16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス
2025年9月7日(日) 9:30 〜 11:15
N405 (共通講義棟北)
[7a-N405-1]顕微干渉計による相変化パターンの段差測定(Ⅱ)
〇菅原 健太郎1、後藤 民浩2 (1.産総研、2.群馬大理工)
[7a-N405-2]室温でのIn-Se蒸着膜の透過率変化
〇(M2)平井 太洋1、後藤 民浩1 (1.群馬大理工)
[7a-N405-3]カルコゲナイド系アモルファス薄膜における低温下光照射による光吸収端変化の挙動
〇(M1)井上 結稀1、林 浩司2 (1.岐阜大学自然研、2.岐阜大工)
[7a-N405-4]真空蒸着によるアモルファスGe-S-Te三元薄膜の創製と選択素子への応用
〇(M1C)猪瀬 大貴1、金 美賢1、畑山 祥吾2、齊藤 雄太1,2,3 (1.東北大工、2.産総研 SFRC、3.東北大 GXT)
[7a-N405-5]Ag2Te抵抗変化素子におけるRF波印加回数および周波数依存性
〇(M1)山澤 隼1、土橋 裕太1、中岡 俊裕1 (1.上智理工)
[7a-N405-6]スパッタリング法で成膜されたアモルファスVTe2薄膜の結晶化挙動
〇(M2)折原 周平1、双 逸1,2、安藤 大輔1、須藤 祐司1,2 (1.東北大工、2.東北大AIMR)