2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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15:15 〜 15:30
[7p-N302-8]
Ge薄膜/Si基板上の
h
-BNナノシートのCVD成長
〇(M1)塚田 快
1
、渡辺 健太郎
1,2
(1.信州大学、2.信州大学IFES)
キーワード:
六方晶窒化ホウ素、化学気相成長、SiGe
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