講演情報
[7p-N405-8]シリカガラス中の格子間塩素酸化物分子によるF2レーザー誘起紫外光吸収
Skuja Linards1、Ollier Nadége2、〇梶原 浩一3、Bite Ivita1、Leimane Madara1、Smits Krisjanis1、Silins Andrejs1 (1.ラトビア大、2.パリ工科大、3.都立大)
キーワード：
シリカガラス、格子間塩素酸化物分子、F2レーザー誘起光吸収
合成シリカガラス中の不純物である塩素は酸素との光化学反応によって種々の塩素酸化物を生じるが、それらとシリカガラスの光学損失との関係には不明な点が多い。また、シリカガラスの∼4–7 eV の紫外光吸収帯の同定は不十分である。今回、F2レーザー照射した酸素過剰無水シリカガラスで格子間塩素酸化物による紫外光吸収帯を同定した結果について報告する。