講演情報
[7p-P03-46]ナノインプリントによる三次元磁性デバイス作製技術研究
〇黒川 雄一郎1、田辺 賢士2、山田 啓介3、鷲見 聡2、粟野 博之2、湯浅 裕美1 (1.九大シス情、2.豊田工大、3.岐阜大)
キーワード：
ナノインプリント、三次元構造
磁気デバイスや磁気メモリの密度向上の為には、三次元構造を有する磁性パターンを作製することが重要である。この研究ではナノインプリントを用いた三次元磁性構造作製法を開発した。ナノインプリントは原盤と熱や紫外光などを用いて、三次元構造を作製する技術である。本研究ではシクロオレフィンポリマーの上に磁性薄膜を有するポリイミド(PI)フィルムを乗せ、ナノインプリントすることでPI上に三次元磁性構造を作製した。