講演情報
[7p-P07-25]ドロップレット抑制を目的としたエクリプスNd:YAG-PLD法によるYBCO薄膜作製と決定的スクリーニング設計による実験条件最適化
〇奥村 英二郎1、家田 弦1、垂水 颯汰1、小川 剛史1、田岡 紀之1、清家 善之1、森 竜雄1、一野 祐亮1,5、堀尾 恵一2,5、一瀬 中3,5、堀出 朋哉4,5、松本 要4,5、吉田 隆4,5 (1.愛工大、2.九工大、3.電中研、4.名大、5.JST-CREST)
キーワード：
超伝導、ドロップレット、実験計画法
YBa₂Cu₃Oᵧ（YBCO）超伝導体の薄膜作製には、パルスレーザー蒸着（PLD）法が多く用いられる。しかし、Nd:YAGレーザーを用いたPLD法では、ターゲットから飛散するドロップレットが薄膜表面に多く付着する問題がある。これにより薄膜表面の評価が困難になるだけでなく、結晶成長や超伝導特性にも悪影響を及ぼす。そこで本研究では、エクリプスNd:YAG-PLD法の実験条件がYBCOエピタキシャル薄膜に与える影響を明らかにし、ドロップレット発生抑制の条件を探った。