講演情報
[7p-S201-11][第58回講演奨励賞受賞記念講演] 減圧乾燥法による基板の大きさや濡れ性の影響を受けにくいスズペロブスカイト成膜手法の開発
〇原田 布由樹1、中村 智也1、Truong Minh-Anh1、Murdey Richard1、若宮 淳志1 (1.京大化研)
キーワード：
ペロブスカイト太陽電池、スズペロブスカイト太陽電池、減圧乾燥法
スズペロブスカイト半導体が環境負荷の小さい塗布型太陽電池の光吸収材料として注目を集めている。本研究では、減圧乾燥法と配位性添加剤を用いることで、基板のサイズや下地の親水性によらずに緻密なスズペロブスカイト薄膜を作製可能な成膜手法を開発した。本発表では、成膜時のメカニズムや、本成膜法を用いて作製したスズペロブスカイト太陽電池セルおよびモジュールについて詳細に報告する。