[8a-N321-1~9] 6.2 カーボン系薄膜

9:45 〜 10:00奨励賞エントリー

[8a-N321-2] 高速フィルタードアーク蒸着装置における実用ワークテーブルでの水素フリーDLC成膜

〇佐野 春¹、佐野 絃貴¹、渡辺 聖也¹、滝川 浩史¹、杉田 博昭²、服部 貴大²、儀間 弘樹² (1.豊橋技科大、2.オーエスジー（株）)

キーワード：

ta-C、水素フリーDLC、高速フィルタードアーク蒸着

切削工具の耐凝着性・耐摩耗性向上のため，DLC膜が利用される。本研究では，開発中の高速FAD装置を用いより実用に近いワークテーブルでの成膜を試みた。従来の非回転支柱での成膜ではI_D/I_Gが0.57，膜厚700 nmのa-Cであったが，今回のドリルホルダ位置ではI_D/I_Gが0.19，膜厚370 nmのta-Cを得た。成膜速度が減少したため基板が過熱されず，ta-C形成が維持されたたためと考えられる。