[8p-N202-1~18] 3.13 シリコンフォトニクス・光電融合集積・光制御

13:30 〜 13:45

[8p-N202-1] PFASフリーなポリマー光導波路のハイパワー光耐性

〇須田 悟史¹、乗木 暁博¹、鍬塚 治彦¹、中村 文¹、天野 建¹ (1.産総研)

キーワード：

ポリマー光導波路、ハイパワー、シリコンフォトニクス

PFAS規制対応が求められる中、PFASフリー材料SUNCONNECT®を用いたポリマー光導波路の高出力耐性を検証した。1550 nmで伝搬損失0.8±0.1 dB/cmを達成し、最大+26 dBm入力でも線形性と安定動作を維持した。シリコン導波路と比較して高い耐光損傷特性を有し、PFAS代替材料による次世代高出力デバイスへの応用可能性を示した。