2025年第86回応用物理学会秋季学術講演会
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セッション詳細

一般セッション(口頭講演)3 光・フォトニクス：3.13 シリコンフォトニクス・光電融合集積・光制御

[8p-N202-1~18]3.13 シリコンフォトニクス・光電融合集積・光制御

2025年9月8日(月) 13:30 〜 18:15
N202 (共通講義棟北)
13:30 〜 13:45

[8p-N202-1]PFASフリーなポリマー光導波路のハイパワー光耐性

〇須田 悟史1、乗木 暁博1、鍬塚 治彦1、中村 文1、天野 建1 (1.産総研)
13:45 〜 14:00

[8p-N202-2]波長2 μmでの自己形成光導波路：シリコンフォトニクス自動光接続に向けた検討

〇(M2)柴 瑞輝1、寺澤 英孝2、近藤 圭祐1,2、杉原 興浩1,2 (1.宇大院、2.宇大工)
14:00 〜 14:15奨励賞エントリー

[8p-N202-3]自己修復機能をもつ自己形成光導波路

〇瀧澤 知也1、市岡 麻希子1、寺澤 英孝1、近藤 圭祐1、杉原 興浩1 (1.宇大院)
14:15 〜 14:30

[8p-N202-4]ディップイン式レーザー3Dリソグラフィーを用いた高屈折率ポリマーによるフォトニックワイヤーボンディング

〇ＸＩＡＮＧ ＬＩＸＩＮ1、岡田 祥2、西浦 克典3、四釜 拓生3、永松 周1、前川 永遠1、大塚 健祐3、雨宮 智宏1 (1.科学大工、2.情報通信研究機構、3.三井化学)
14:30 〜 14:45英語発表

[8p-N202-5]SiN-rib InP membrane waveguide with a low-loss taper structure

〇Jinchi Pan1, Hiroya Sakumoto1, Tomohiro Akazawa1, Kasidit Toprasertpong1, Shinichi Takagi1, Mitsuru Takenaka1 (1.The Univ. of Tokyo)
14:45 〜 15:00

[8p-N202-6]テーパ構造による高位置ずれ耐性を有する化合物半導体と誘電体・Si 導波路直接接合

〇岡山 秀彰1、高橋 博之1、小野 英輝1、志村 大輔1、谷川 兼一1、鈴木 貴人1、古田 裕典1、西山 伸彦2 (1.沖電気、2.東京科学大)
15:00 〜 15:15英語発表

[8p-N202-7]Characteristics Comparison of Interlayer Couplers Between Silicon Oxynitride and Silicon Waveguide Layers

〇(D)Kaibin Yao1, Moataz Eissa1, Tsuyoshi Horikawa1, Nobuhiko Nishiyama1,2,3 (1.Science Tokyo Inst., 2.IIR, 3.PETRA)
15:15 〜 15:30奨励賞エントリー

[8p-N202-8]石英系PLCの青色光入力による実効屈折率変化のモデル化と検証

〇藤原 裕士1、阪本 隼志1、片寄 里美1、梅木 毅伺1、橋本 俊和1 (1.NTT先デ研)
15:30 〜 15:45

[8p-N202-9]構造揺らぎに対し高いトレランスを有するEr添加CeO2スプリット導波路構造の設計

〇稲葉 智宏1、徐 学俊1、俵 毅彦2、尾身 博雄3、山本 秀樹1、眞田 治樹1 (1.NTT物性研、2.日大、3.大和大)
16:00 〜 16:15英語発表

[8p-N202-10]Examination of selective quantum well intermixing on III-V on insulator wafer

〇(M2)Sheng Fu1, Kasidit Toprasertpong1, Shinichi Takagi1, Mitsuru Takenaka1 (1.Univ. Tokyo)
16:15 〜 16:30奨励賞エントリー

[8p-N202-11]薄膜LiNbO3マッハツェンダ干渉計に向けたエッチング条件探索

〇永長 武留1、上向井 正裕1、谷川 智之1、片山 竜二1 (1.阪大院工)
16:30 〜 16:45英語発表

[8p-N202-12]Amorphous-Si Strip-Loaded Thin Film Lithium Niobate on Insulator Waveguides with Low Propagation Loss and Reduced Bending Radius

〇Moataz Eissa1, Yoshitaka Ohiso1, Kensuke Ogawa1, Yuki Nemoto2, Shoichiro Yamaguchi2, Masahiko Namerikawa2, Nobuhiko Nishiyama1 (1.Science Tokyo, 2.NGK Insulators)
16:45 〜 17:00奨励賞エントリー

[8p-N202-13]複屈折変調イメージング法によるμ-Transfer Printing集積 ニオブ酸リチウム薄膜の電気光学係数評価

〇村井 俊哉1、須波 圭史2、高 磊1 (1.産総研 光電融合センター、2.産総研 エレクトロニクス基盤技術研究部門)
17:00 〜 17:15

[8p-N202-14]薄膜ニオブ酸リチウム上に製作したグレーティングカプラ付き導波路での光伝搬（II）

〇羽中田 祥司1、北原 凌成1、坂本 駿介1、馬場 俊彦1 (1.横国大院工)
17:15 〜 17:30

[8p-N202-15]反射層装荷によるグレーティングカップラの指向性改善の実証

〇美馬 由佳1、小澤 桂介1、井上 純一1、金高 健二2、裏 升吾1 (1.京都工繊大、2.産総研)
17:30 〜 17:45

[8p-N202-16]高効率広帯域グレーティングカプラの最適化と原理の探求

〇田原 直樹1、名和 翔太1、鎌田 幹也1、馬場 俊彦1 (1.横浜国立大)
17:45 〜 18:00

[8p-N202-17]グレースケール露光を用いたレジストマスターモールドによるNILプロセス

〇永松 周1、前川 永遠1、向 立昕1、李 周姸2、大塚 健祐2、宮尾 宙2、飯田 健二2、雨宮 智宏1 (1.科学大工、2.三井化学)
18:00 〜 18:15

[8p-N202-18]OFDR法を用いたウェーハレベル光集積デバイス特性検査(2)
‐透過及び反射プロファイルに見られる導波路多重反射の定式化‐

〇堀川 剛1、西山 伸彦1,2 (1.東京科学大、2.PETRA)
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