講演情報
[8p-N206-8]ZnSe系有機-無機ハイブリッド型紫外APDにおける増倍層膜厚の最適化
〇坂口 悠太1、古川 大和1、平田 安里紗1、浅井 翔1、若畑 朋珠1、阿部 友紀1、赤岩 和明1、市野 邦男1 (1.鳥取大)
キーワード：
アバランシェ・フォトダイオード、ZnSe、有機-無機ハイブリッド
本研究で作製しているAPDはMBE 装置により成長させたZnSSe 層に正孔輸送材料であるPEDOT：PSS を窓層とした有機無機ハイブリッド型構造であり，他材料を用いた紫外APD と比べ，動作電圧が約30V と低くブレークダウン直前の暗電流が~1pA/mm^2 と低暗電流である．
本研究では，窓層エッジ保護プロセスを施したAPD の素子を，増倍層膜厚0.4μm，0.6μm，0.7μm，0.9μmでそれぞれ作製し，素子特性を評価することで最適な増倍層膜厚の決定を目指す．
本研究では，窓層エッジ保護プロセスを施したAPD の素子を，増倍層膜厚0.4μm，0.6μm，0.7μm，0.9μmでそれぞれ作製し，素子特性を評価することで最適な増倍層膜厚の決定を目指す．